三星前高管被控窃密：拟在大陆复刻“三星存储厂”，已被拘留起诉

原标题：三星前高管被控窃密：拟在大陆复刻“三星存储厂”，已被拘留起诉

6月12日消息，据韩国媒体报道称，韩国水原地检署今天表示，韩国半导体大厂三星电子一名65岁常务A某涉嫌收受中资，意图在中国大陆境内建设“复刻版”三星电子半导体厂，已经以违反产业技术保护法、防治不当竞争法等罪嫌，已遭韩国检方拘留起诉。

报道称，A某除在三星电子担任常务，也曾任SK海力士副社长，在韩国半导体制造业界也算是极具影响力的人物。调查显示，A某涉嫌在2018年8月至2019年间不当取得、使用三星电子半导体厂的设计基本资料（BED）与工厂配置图、设计图等商业机密，设计30nm以下等级、DRAM与NAND Flash等被韩国政府定为国家核心技术的制造技术。

据悉，A某规划建设的工厂甚至距离三星电子西安厂仅1.5公里远，但建厂计划受原订于来自中国台湾企业的资金未到位影响而未能实现。

另据YTN，亚洲经济等韩国媒体的报导，A某曾在2015年与鸿海集团旗下富士康签约，计划在新加坡设立公司后挖角200多名三星电子员工。2019年10月，为了在西安建厂，A某于中国北京设立公司，期间收受来自成都市的约4,600亿韩元（约人民币25.6亿元）资金，计划利用窃取的三星电子技术生产最新产品，但因建厂计划失败而未能量产。

韩国检方指出，这次案件并非单纯泄露半导体相关技术，而是试图在中国大陆完全复制韩国企业的半导体工厂，在国际半导体产业竞争激烈的背景之下，是危及韩国半导体根基的重大犯罪行为。

报道称，A某在中国设立公司所属的5名员工及一名三星电子合作厂商员工也被以涉嫌违反反不正当竞争法遭到拘留起诉。

编辑：芯智讯-浪客剑