小米第三代屏下摄像头技术原理 小米屏下摄像头技术如何实现

给大家分享一篇关于手机知识的文章。相信很多朋友对手机还是不太了解。随后边肖还在网上搜集了一些关于手机实时信息的相关知识与大家分享。希望大家看了能有所帮助。

今年大部分手机厂商都在关注120Hz高屏和超级快充。明年各大厂商的主要技术肯定会是屏下摄像头技术。今天小米也公布了第三代屏下摄像头技术，那么屏下摄像头技术的原理是什么呢？用Xda边肖看看吧。

首先，我们来看看屏下摄像头的原理：

因此，这里的屏下摄像头意味着摄像头区域仍然可以正常显示，显示器上的异形屏幕，例如直接切掉一部分显示区域拍照的水滴屏和刘海平，不在讨论范围内。

首先来看看手机显示屏的结构。我在下图中画了六层。从上到下分别是玻璃罩(也就是我们常说的外屏)、OCA胶、偏光片层、上玻璃、下玻璃、泡沫。

要把相机放在屏幕下面，同时相机要能拍照，也就是说相机上的透光率要比较高，一般在60%以上。如何实现这一点？

1.泡沫层不透明，必须打孔。

2.下层玻璃本身是透明的，不需要打孔。

3.上层玻璃也是透明的，不需要开孔。

4.目前偏光片层透光率大多在45%以内，不满足透光率要求，偏光片要打孔。

5.OCA胶层透明，不需要打孔。

6.玻璃盖板也是透明的，不需要开孔。

你以为你只要冲泡沫和偏光片就行了吗？太天真了！

如果我们去掉一个有机发光二极管显示屏的玻璃盖板、OCA胶和保护泡沫，只剩下上下玻璃和中间发光层，那么我们用透射比仪测量，发现透射的光能只有不到6%。注意我图中光线的粗细，并注明光能。也就是说，有机发光二极管的发光层是不透明的。

嗯，我们的目的是让这个区域的发光层在拍照的时候正常显示，并且发光层在拍照的时候有比较高的透光率。我该怎么办？

让我们看看发光层的结构，谈谈解决方案。如图所示，有机发光二极管的结构由以下几个层次组成：

阳极

空穴注入层(HIL)，

空穴传输层(HTL，空穴传输层)，

发射层(EML)，

电子传输层

阴极

一般有空穴阻挡层(HBL)、电子阻挡层(EBL)和覆盖层(CPL)。

阴极：

需要低功率材料作为有机发光二极管的阴极。使用低功函数的材料作为阴极，不仅可以提高电子注入效率，还可以减少有机发光二极管工作时产生的焦耳热，提高器件的使用寿命。比如常见的正极材料：金属元素：银、铝、锂、镁、钙、铟等。单质金属活泼，容易氧化，导致使用寿命缩短。

此时，请回去看看第一张图片。在上玻璃和下玻璃之前，留下空白层。这一层通常被制成真空或填充惰性气体，只是为了防止电极和生物材料被氧化。三星通常的做法是充入低压氮气。

阳极：

因为空穴需要注入有机发光二极管，所以要求具有高功函。通常选择薄而透明的ITO。

当电子和空穴结合刺激生物材料发光时，有各个角度的发光，手机的显示器只需要在一侧发光，所以阴极同步也要起到反射膜的作用，提高显示器亮度。

根据一些文献，在阴极和阳极之间形成谐振腔，可以调节光效率和提高光谱纯度。其实这种调节能力总比没有强，所以有机发光二极管目前的发展方向还是在于从材料上提高发光效率和光谱纯度。

下面是显微镜下拍摄的有机发光二极管的微观结构。每个小矩形代表一个像素，可以清楚地看到像素的分布和布线。如上所述，有机发光二极管的测量透射率不超过6%，这主要是由迹线和电极的不透明反射层引起的。

从图中可以清楚地看到，反射电极的遮光占了很大的比例。有朋友建议是否可以把阴极做得更透明，可以去掉反射层的遮光。类似于透明有机发光二极管，它可以用作屏幕外的相机。

但是手机上的透明有机发光二极管会带来显示亮度低、显示对比度降低的问题，如下图的透明有机发光二极管所示。这种方案会造成摄像头区域的显示效果和正常区域的显示效果差别很大。

那么，小米采用了什么技术呢？

正常的有机发光二极管屏幕几乎是不透明的，因此为了实现透明，必须在屏幕下方的相机区域采用特殊的像素排列。前两代技术，虽然一开始

小米第三代屏下相机采用全新自研像素排布，通过子像素的间隙区域让屏幕透过光线。如此带来的好处，就是每个单位像素仍旧保留完整的RGB子像素(Sub-Pixel)显示，不牺牲像素密度。相比市面普通方案，小米第三代屏下相机的显示区域无论横向、纵向像素数量全部翻倍，实现与正常显示区域完全一致的像素密度和显示精度，点对点物理像素全显示，并达到相同的亮度、色准及色域。整块屏幕，浑然一体，难辨差异。

小米已经官宣了明年将发布最新的第三代相机技术，很大可能是在最新的小米11上，让我们一起期待吧。